| 发明名称 | Al-基合金溅射靶及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能减少溅射靶在使用初始阶段产生的飞溅，由此防止配线膜等中产生的缺陷，提高FPD的成品率和动作性能的Al-(Ni，Co)-(Cu，Ge)-(La，Gd，Nd)系合金溅射靶及其制造方法。本发明涉及构成分别含有选自A组(Ni，Co)中的至少一种、选自B组(Cu，Ge)中的至少一种和选自C组(La，Gd，Nd)中的至少一种的Al-(Ni，Co)-(Cu，Ge)-(La，Gd，Nd)系合金溅射靶，并且其维氏硬度(HV)为35以上的Al-基合金溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN101691657B | 申请公布日期 | 2012.07.25 |
| 申请号 | CN200910132939.2 | 申请日期 | 2009.03.31 |
| 申请人 | 株式会社钢臂功科研;株式会社神户制钢所 | 发明人 | 高木胜寿;岩崎祐纪;得平雅也;后藤裕史;三木绫;奥野博行;越智元隆;岸智弥 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C22C21/00(2006.01)I;C22C21/12(2006.01)I;C22C1/02(2006.01)I;C22F1/04(2006.01)I;C22F1/057(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 一种Al‑基合金溅射靶，其含有：从由Ni及Co构成的A组中选择的至少一种，从由Cu及Ge构成的B组中选择的至少一种，和从由La、Gd及Nd构成的C组中选择的至少一种，其中，所述Al‑基合金溅射靶的硬度以维氏硬度HV计为35以上，所述A组的总含量为0.05原子％以上且1.5原子％以下；所述B组的总含量为0.1原子％以上且1原子％以下；所述C组的总含量为0.1原子％以上且1原子％以下。 | ||
| 地址 | 日本国兵库县 | ||