化学机械抛光垫及化学机械抛光方法

摘要

本发明公开了属于化学机械抛光领域中的一种化学机械抛光垫和化学机械抛光方法。本抛光垫至少包括一个纳米纤维层，纳米纤维层为非织布结构，纤维层厚度为0.1μm-3cm，纳米纤维平均直径为1nm-1μm，长度＞1cm，纳米纤维轴向平行于抛光垫工作表面。其化学机械抛光方法包括将抛光液施加到抛光垫工作表面或被抛光材料表面；使抛光垫工作表面与被抛光材料表面接触，并使抛光垫相对于被抛光材料运动，在低压力或超低压力下对被抛光材料进行化学机械抛光。使用本发明的抛光垫，可以减少划痕损伤和应力剥离等缺陷获得较高质量的表面，同时，可以实现在较低的压力下获得较高的材料去除速率。

主权项

一种化学机械抛光垫，其特征在于：所述的抛光垫至少包括一层纳米纤维层1，或纳米纤维层1底部还有衬底层2，或衬底层2底部还通过压敏胶或粘结剂3粘结上子垫4。所述纳米纤维层1为非织布结构，纤维层厚度为0.1μm‑3cm，纳米纤维平均直径为1nm‑1μm，长度＞1cm，纳米纤维轴向平行于抛光垫工作表面。