| 发明名称 | 用于基材热处理的装置和处理室 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于平面基材(10)的热处理的处理室(20，21，21′)。处理室(20，21，21′)包括用于在热处理过程中输送和存放基材(10)的输送装置(25，25′)和用于对流加热或对流冷却该基材(10)的气体供给机构(30，30′)。气体供给机构(30，30′)具有多个出口孔(32，32′)，温度经过调节的气体通过该出口孔被送至基材(10)。而且，在处理室(20，21，21′)内设有抽排机构(33，33′)，可通过该抽排机构有目的地抽排经气体供给机构(30，30′)被送入处理室(20，21，21′)的气体。处理室能以加热处理室(21)或冷却室(21′)的形式构成。 | ||
| 申请公布号 | CN102612631A | 申请公布日期 | 2012.07.25 |
| 申请号 | CN201080035899.0 | 申请日期 | 2010.08.12 |
| 申请人 | 莱博德光学有限责任公司 | 发明人 | E·诺瓦克;J·特鲁布 |
| 分类号 | F27B9/30(2006.01)I;C03B27/044(2006.01)I;C03B29/08(2006.01)I | 主分类号 | F27B9/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人 | 胡强 |
| 主权项 | 一种用于平面基材(10)的热处理的处理室(20，21，21′)，具有用于在热处理过程中输送并存放该基材(10)的输送装置(25，25′)和用于对流加热或对流冷却该基材(10)的气体供给机构(30，30′)，其中该气体供给机构(30，30′)在靠近该基材(10)的区域内具有多个用于气体的出口孔(32，32′)，其特征是，该处理室(20，21，21′)具有用于有目的地抽排通过该气体供给机构(30，30′)被送入该处理室(20，21，21′)的气体的抽排机构(33，33′)。 | ||
| 地址 | 德国阿尔策瑙 | ||