| 发明名称 | 成像材料 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种成像材料，所述成像材料包含由下式(I)表示的萘嵌间二氮杂苯类方酸染料，其中，式(I)中，R表示氢原子或甲基。 | ||
| 申请公布号 | CN101685252B | 申请公布日期 | 2012.07.25 |
| 申请号 | CN200910127326.X | 申请日期 | 2009.03.10 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 田民权;广川一彦;伊藤由贺;中曾优;长谷川真史;渡边美穗;松原崇史;穴泽一则;宫原知子;古木真 |
| 分类号 | G03C1/498(2006.01)I;G03C1/83(2006.01)I;C09B57/00(2006.01)I;G03G9/08(2006.01)I;C09D11/00(2006.01)I | 主分类号 | G03C1/498(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 丁香兰;庞东成 |
| 主权项 | 1.一种成像材料，所述成像材料包含由下式(I)表示的萘嵌间二氮杂苯类方酸染料：<img file="FDA0000130373900000011.GIF" wi="1023" he="831" />其中，式(I)中，R表示氢原子或甲基；且其中，所述萘嵌间二氮杂苯类方酸染料的含量为所述成像材料的总重量的0.05重量％～3重量％。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||