一种纱线连续金属镀膜的方法及装置

摘要

本发明公开一种纱线连续金属镀膜方法及装置。该方法采用如下工艺：1.先将真空室的压力抽至≤2×10-3Pa，然后充入氩气，使真空室的工作压强达到0.5-3.0Pa；2.再把纱线平行往复地连续引进真空室的磁控溅射区内，在100-2000w的溅射功率下镀膜，然后卷绕即得；磁控溅射区是指由两块间隔40-200mm平行放置的矩形靶材构成的区间；纱线通过磁控溅射区内的时间为300-30秒。该装置适用于本发明纱线连续金属镀膜方法，包括真空室和其内两块靶材构成磁控溅射区，其特征在于真空室内按工艺路线还依次安装有退纱筒、张力装置、前导纱转子、后导纱转子、导纱器和卷绕筒以及传动装置和控制机构等。

主权项

一种纱线连续金属镀膜装置，该装置适用于下述的纱线连续金属镀膜方法，(1).先将真空室的压力抽至≤2×10‑3Pa，然后充入氩气，使真空室的工作压强达到0.5‑3.0Pa；(2).再把纱线平行往复地连续引进真空室的磁控溅射区内，在100‑2000w的溅射功率下，使金属不断地沉积在纱线的表面上镀膜，然后卷绕即得；所述的磁控溅射区是指由两块间隔40‑200mm平行放置的矩形靶材构成的区间；所述纱线通过磁控溅射区内的时间为300‑30秒；包括真空室和其内间隔40‑200mm平行安装的两块靶材，两块靶材之间构成磁控溅射区，其特征在于真空室内按工艺路线还依次安装有退纱筒、张力装置、前导纱转子、后导纱转子、导纱器和卷绕筒；所述退纱筒活套在锭杆上，卷绕筒用键安装在传动轴上；安装在真空室外边的伺服电机及其控制机构控制驱动传动轴转动卷绕；所述的磁控溅射区设计在所述前导纱转子与后导纱转子之间。