发明名称 |
一种场发射显示器件中阳极屏的制备方法 |
摘要 |
一种场发射显示器件中阳极屏的制备方法,涉及场发射显示器件领域,它解决了现有制作场发射阳极屏时存在ITO电极条局部区域绝缘性低而产生干扰亮点,并且ITO层和衬底玻璃表面的视觉反差小,造成ITO条图形不清楚的问题,将ITO玻璃采用光刻方法进行光刻、腐蚀,采用ITO玻璃深化腐蚀液对ITO玻璃进行深化腐蚀;对深化腐蚀后的ITO玻璃旋涂荧光粉,通过光刻方法实现场发射显示器件阳极屏的制备;ITO玻璃深化腐蚀液的制备方法为:取H2O∶HF=3∶1的混合液刻蚀ITO条形电极的玻璃衬底,所述HF的浓度为40%的HF的水溶液。本发明适用于场发射器件中套版光刻技术。 |
申请公布号 |
CN101866797B |
申请公布日期 |
2012.07.25 |
申请号 |
CN201010228991.0 |
申请日期 |
2010.07.16 |
申请人 |
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
发明人 |
李志明;孙晓娟;宋航;黎大兵;陈一仁;缪国庆;蒋红 |
分类号 |
H01J9/20(2006.01)I;H01J9/227(2006.01)I |
主分类号 |
H01J9/20(2006.01)I |
代理机构 |
长春菁华专利商标代理事务所 22210 |
代理人 |
陶尊新 |
主权项 |
一种场发射显示器件中阳极屏的制备方法,其特征是,该方法由以下步骤实现:步骤一、将ITO玻璃采用光刻方法进行光刻、腐蚀,获得腐蚀后的ITO玻璃;步骤二、采用ITO玻璃深化腐蚀液对步骤一获得的ITO玻璃进行深化腐蚀;步骤三、对步骤二获得的深化腐蚀后的ITO玻璃旋涂荧光粉,通过光刻方法实现场发射显示器件阳极屏的制备;步骤二所述的ITO玻璃深化腐蚀液的制备方法为:取H20∶HF=3∶1的混合液刻蚀ITO条形电极(1)的玻璃衬底,所述HF的浓度为40%的HF的水溶液。 |
地址 |
130033 吉林省长春市东南湖大路3888号 |