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Aparato para depositar una película delgada de material sobre un sustrato que comprende:- una cámara (1) de vacío,- un portamuestras (6) dispuesto dentro de dicha cámara (1) de vacío, pudiendo soportar dicho portamuestras (6)dicho sustrato,- un inyector (9) de gas que puede inyectar un precursor gaseoso al interior de la cámara (1) de vacío, pudiendoreaccionar una parte de dicho precursor gaseoso en la superficie del sustrato,- por lo menos un panel criogénico (10) colocado dentro de la cámara (1) de vacío y que puede adsorber una partede dicho precursor gaseoso que no ha reaccionado en la superficie del sustrato, y liberar dicho precursorgaseoso adsorbido,- unos primeros medios de atrapado (11) conectados a dicha cámara (1) de vacío y que pueden atrapar una partede dicho precursor gaseoso liberado por dicho panel criogénico (10), presentando dichos primeros medios deatrapado (11) una capacidad de bombeo fija S1,caracterizado porque comprende:- unos segundos medios de atrapado (18) que pueden atrapar otra parte de dicho precursor gaseoso liberado pordicho panel criogénico (10) y que presentan una capacidad de bombeo variable S2 que puede regularse enfunción de la presión parcial del precursor gaseoso,- proporcionando dichos primeros y segundos medios de atrapado una capacidad de bombeo total S >= S1 + S2suficiente para mantener la presión parcial del precursor gaseoso en la cámara (1) de vacío por debajo de unapresión determinada PL.
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