发明名称 反射式光栅光阀及其加工方法
摘要 一种反射式光栅光阀及其加工方法,所述的反射式光栅光阀主要由硅基底、二氧化硅层和可移动光栅条组成,所述的硅基底上设有二氧化硅层,在二氧化硅层上设有多个可移动光栅条,所述的可移动光栅条间相互平行且等间隔布置,可移动光栅条呈中间悬空的桥梁状,其两端分别固定于二氧化硅层上;加工方法是在硅基底上生长二氧化硅层,在二氧化硅层上生长硅牺牲层,在硅牺牲层上生长氮化硅层;用离子蚀刻法对氮化硅层进行离子蚀刻,留下氮化硅梁部分;用化学腐蚀法对牺牲层进行腐蚀,掏空牺牲层,得到中间悬空、两端固定在二氧化硅层上的氮化硅梁;在氮化硅层的表面蒸镀一层金属铝或金属银作为金属反射层和上电极;它具有高光效率、高消光比和高响应速度,而且加工工艺简单,可作为其多路光调制器件,应用于高品质印刷和防伪包装领域的高解析度激光雕刻装备。
申请公布号 CN102602160A 申请公布日期 2012.07.25
申请号 CN201210061108.2 申请日期 2012.03.09
申请人 方平 发明人 方平
分类号 B41J2/435(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B26/00(2006.01)I 主分类号 B41J2/435(2006.01)I
代理机构 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 代理人 翁霁明
主权项 一种反射式光栅光阀,它主要由硅基底(1)、二氧化硅层(2)和可移动光栅条(3)组成,其特征在于所述的硅基底(1)上设有二氧化硅层(2),在二氧化硅层(2)上设有多个可移动光栅条(3),所述的可移动光栅条(3)间相互平行且等间隔布置,可移动光栅条(3)呈中间悬空的桥梁状,其两端分别固定于二氧化硅层(2)上。
地址 311700 浙江省杭州市千岛湖镇明珠花园41幢2单元303室