发明名称 |
检查方法和设备、光刻设备和光刻处理单元 |
摘要 |
公开了一种用于缺陷监测和分类的检查方法,所述方法采用由散射仪检测器检测到的来自衬底表面的辐射的原始的后焦面图像数据,以确定所述原始数据的变化并将原始数据的变化与光刻设备中或对衬底表面进行图案化的工艺中的可能的缺陷相关联。所述相关联通过将原始数据的变化与已知的度量数据进行比较进行。一旦已经确定了缺陷,用户可以接到关于缺陷的提示。并且公开了一种用于缺陷监测和分类的检查设备、一种光刻设备和一种光刻处理单元。 |
申请公布号 |
CN101236359B |
申请公布日期 |
2012.07.25 |
申请号 |
CN200710196220.6 |
申请日期 |
2007.11.30 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
埃维哈德斯·科尼利斯·莫斯;艾瑞·杰弗里·登保埃夫;马瑞特斯·万德思查尔;托马斯·利奥·玛丽亚·胡根鲍姆 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种测量衬底属性的方法,包括步骤:在衬底上形成结构;以辐射束照射衬底上的结构;在辐射束已经从所述结构处改变方向之后,通过在显微镜物镜的后焦面处的检测器检测辐射束;重复对(i)衬底上的多个管芯,或(ii)在一批中的多个衬底,或(iii)多批相似类型的衬底,或(iv)(i)‑(iii)的任意组合的形成、照射和检测;监测改变方向后的辐射束的改变;通过将所监测到的改变与已有的度量数据相对比,使所述监测到的改变与缺陷相关联;以及产生缺陷提示。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |