发明名称 |
光学邻近效应修正法 |
摘要 |
一种光学邻近效应修正法,特别是关于一种光学邻近效应修正法之修正步骤(OPC correction recipe),包括以下步骤:建立光学邻近效应修正法之模型,并在接下来的布局图案片段修正步骤时,先设定复数个预定目标点与复数个预定切点,并依据上述复数个预定目标点与复数个预定切点所产生出之修正图案的影像品质(image quality),于复数个预定目标点与复数个预定切点中选定作为布局图案片段修正之目标点与切点。 |
申请公布号 |
TWI368858 |
申请公布日期 |
2012.07.21 |
申请号 |
TW097127103 |
申请日期 |
2008.07.17 |
申请人 |
世界先进积体电路股份有限公司 新竹县新竹科学工业园区园区三路123号 |
发明人 |
王立铭 |
分类号 |
G06F17/50;G03F1/36 |
主分类号 |
G06F17/50 |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
主权项 |
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地址 |
新竹县新竹科学工业园区园区三路123号 |