| 摘要 |
本发明提供一种用于曝光基板的曝光设备，其包括：基板平台，系架构以支承该基板并移动；测量装置，系架构以测量该基板平台所支承的该基板上之标记的位置偏移量；计算装置，系架构以决定线性表示式，该线性表示式用于概算使用该测量装置所测得的位置偏移量；以及控制装置，系架构以根据基于该线性表示式的目标位置来控制该基板平台的位置，用于曝光该基板上的曝光区域，其中该计算装置系架构以根据整数规划法来决定该线性表示式，以便将标记的数目最小化，该等标记在该测量装置所测得的标记位置偏移量与根据该线性表示式所概算出的标记位置偏移量之间具有差异，该差异在预定可容许范围之外。 |
