Verfahren zur Herstellung einer Photomaske unter Verwendung einer Reinigungsvorrichtung, diese umfassend eine Zweifluid-Reinigungsstrahldüse

摘要

Verfahren zur Herstellung einer Photomaske unter Verwendung einer Reinigungsvorrichtung, diese umfassend eine Zweifluid-Reinigungsstrahldüse (10, 20, 30, 40, 50, 60) mit – einer Zerstäubungseinheit (B), um eine Druckflüssigkeit mit einem Druckgas zu Flüssigkeitströpfchen zu zerstäuben; – einer Beschleunigungseinheit (A), um die Flüssigkeitströpfchen in die Atmosphäre auszustoßen, wobei die Beschleunigungseinheit (A) mit einem Ende der Zerstäubungseinheit (B) verbunden ist, weiterhin mit einer Gaszuführeinrichtung (2a), die mit der Zerstäubungseinheit (B) der Zweifluid-Reinigungsstrahldüse (10, 20, 30, 40, 50, 60) verbunden ist, um eine Druckflüssigkeit in die Zerstäubungseinheit (B) zuzuführen, wobei die Beschleunigungseinheit (A) ein gerades zylindrisches Rohr (11, 21, 31, 51, 61) mit einer Länge von 30 bis 200 mm aufweist und wobei die Zerstäubungseinheit (B) ein gerades zylindrisches Rohr (12, 22, 32, 52, 62) mit einer Länge von 3 bis 50 mm und einer Bohrung mit einer Querschnittsfläche von 7 bis 100 mm2 aufweist.