一种气体输送系统及应用该系统的半导体处理设备

摘要

本发明属于半导体处理技术领域，具体提供一种气体输送系统，用于向半导体处理设备的工艺腔室输送工艺气体。其中，所述气体输送系统包括：进气口，其用于将工艺腔室外的工艺气体引入到所述气体输送系统；以及沿所述气体输送系统的长度方向而依次设置的多个出气口，其用于使气体输送系统中的工艺气体经此而输出到工艺腔室内并到达所述托盘所承载的各基片。此外，本发明还提供一种应用该气体输送系统的半导体处理设备。本发明提供的气体输送系统及应用该系统的半导体处理设备能够使工艺气体快速且均匀地到达各托盘所承载的基片，从而提高了被加工基片的处理速度和均匀性，进而提高生产效率及产品良率。

主权项

一种气体输送系统，用于向半导体处理设备的工艺腔室输送工艺气体，在所述工艺腔室内设有托盘装置，所述托盘装置包括沿横向层叠设置的用于承载基片的多个托盘，其特征在于，所述气体输送系统包括：进气口，其用于将工艺腔室外的工艺气体引入到所述气体输送系统；以及沿所述气体输送系统的长度方向而依次设置的多个出气口，其用于使气体输送系统中的工艺气体经此而输出到工艺腔室内并到达所述托盘所承载的各基片。