研磨垫及使用该研磨垫的半导体器件的制造方法

摘要

本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，即使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫在研磨区域(8)及透光区域(9)的单面设有防透水层(10)，并且透光区域与防透水层由相同材料一体化形成。

主权项

一种研磨垫，具有研磨区域及透光区域，其特征是，透光区域的压缩率大于研磨区域的压缩率，透光区域的形成材料为合成橡胶，所述研磨区域由通过使用了硅类表面活性剂的机械的发泡法得到的聚氨酯树脂微细发泡体形成，所述硅类表面活性剂是聚烷基硅氧烷与聚醚的共聚体的不具有活性氢基的表面活性剂。