发明名称 | 减反射膜、光学构件、光学系统 | ||
摘要 | 本发明提供一种在更宽的波段具有充分降低的反射率的减反射膜。该减反射膜(20)设置在光学基板(100)的表面(100S)上,依次具备缓冲层(22)和减反射层(21)。减反射层(21)包括从缓冲层(22)侧依次层叠的第1层(1)~第8层(8),第1层(1)及第6层(6)由对d线具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成,第3层(3)及第5层(5)及第7层(7)由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成,第2层(2)、第4层(4)及第8层(8)由具有对d线在1.70以上2.50以下的范围且高于中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成。缓冲层(22)具有与减反射层(21)的第8层(8)相接的第9层(9)由上述的中间折射率材料构成的多层结构。 | ||
申请公布号 | CN101587197B | 申请公布日期 | 2012.07.18 |
申请号 | CN200910203875.0 | 申请日期 | 2009.05.22 |
申请人 | 富士能株式会社 | 发明人 | 寺山悦夫 |
分类号 | G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 李贵亮 |
主权项 | 一种减反射膜,其特征在于,在基板上备有包括从远离上述基板一侧依次层叠的第1至第8层的减反射层,第1及第6层由对d线具有1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料构成,第3、第5及第7层由对d线具有1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料构成,第2、第4及第8层由对d线具有在1.70以上2.50以下的范围且高于上述中间折射率材料的折射率的高折射率材料构成。 | ||
地址 | 日本埼玉县 |