CMOS图像传感器的制造方法

摘要

本发明公开一种CMOS图像传感器的制造方法。该方法包括以下步骤：在衬底上形成焊盘之后，涂布氧化物层和氮化物层；通过蚀刻该氧化物层和氮化物层露出并清洗该焊盘；涂布焊盘保护层；执行氢退火工艺；执行微透镜工艺、平坦化工艺以及滤色镜阵列工艺；以及去除焊盘区域的焊盘保护层。从而防止氮化物层的脱落现象和圆形缺陷。

主权项

一种CMOS图像传感器的制造方法，该方法包括以下步骤：在衬底上形成焊盘之后，涂布氧化物层和氮化物层；蚀刻和去除该氧化物层和该氮化物层位于该衬底的边缘上的部分，且通过蚀刻该氧化物层和该氮化物层露出该焊盘，并通过第一灰化步骤、溶剂清洗步骤以及第二灰化步骤清洗露出的该焊盘；涂布焊盘保护层；执行氢退火工艺；执行微透镜工艺、平坦化工艺以及滤色镜阵列工艺；以及去除焊盘区域的焊盘保护层。