等离子体处理装置、等离子体处理方法以及终点检测方法

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置(100)，其具备：在容器(1)内生成等离子体的等离子体生成机构、对向待处理体(晶片(W))移动的等离子体中的活性种的粒子数的累计值进行测量的测量部(60)、和当测量的累计值已达到设定值时进行控制以使等离子体处理结束的控制部(50)。测量部(60)从光源部(61)向等离子体照射规定的激光，由具备VUV单色光仪的检测部(63)接收，由此来测定活性种的粒子数。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：处理室，其对待处理体进行等离子体处理；等离子体生成机构，其在所述处理室内生成等离子体；测量机构，其对所述等离子体中所含的朝向待处理体移动的活性种的粒子数的累计值进行测量；和控制机构，其当所述累计值达到设定值时对该等离子体处理装置的动作进行控制以使等离子体处理结束。