| 发明名称 | 包括基于聚二甲基戊二酰亚胺的底层的双层体系及其组成 | ||
| 摘要 | 双层体系，其包括由聚二甲基戊二酰亚胺、对酸敏感的溶解抑制剂和光致产酸剂形成的底层。该双层体系能够以单曝光和显影过程进行曝光和显影。 | ||
| 申请公布号 | CN102597048A | 申请公布日期 | 2012.07.18 |
| 申请号 | CN201080050099.6 | 申请日期 | 2010.08.31 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 伊藤洋;张桃华;郑雅如;金昊彻 |
| 分类号 | C08G63/00(2006.01)I | 主分类号 | C08G63/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 能光致成像的组合物，包含：聚(二甲基戊二酰亚胺)(PMGI)；对酸敏感的溶解抑制剂；光化学产酸剂(PAG)；和溶剂。 | ||
| 地址 | 美国纽约阿芒克 | ||