发明名称 |
一种氮化物分布式布拉格反射镜及制备方法与应用 |
摘要 |
本发明提供了一种氮化物分布布拉格反射镜及制备方法,该DBR采用AlxInyGal-x-yN/AluInvGal-u-vN四元结构。该DBR可通过调节Al、In和Ga的组分来实现晶格常数的调整或者抵消其它结构应力、调节DBR材料的折射率。由于有Ga和In的引入,生长速率也易于调节,可以比AlInN层用更高的温度生长,获得更高的晶体质量和界面平整程度。本发明的氮化物DBR用于制备含DBR的氮化镓基发光二极管。 |
申请公布号 |
CN102593291A |
申请公布日期 |
2012.07.18 |
申请号 |
CN201110002445.X |
申请日期 |
2011.01.07 |
申请人 |
山东华光光电子有限公司 |
发明人 |
曲爽;李树强;李毓锋;王成新;徐现刚 |
分类号 |
H01L33/10(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/10(2010.01)I |
代理机构 |
济南金迪知识产权代理有限公司 37219 |
代理人 |
许德山 |
主权项 |
一种氮化物分布式布拉格反射镜,包括在蓝宝石或碳化硅衬底上依次生长有成核层、缓冲层,所述成核层是氮化镓层、氮化铝层或铝镓氮层之一,所述缓冲层是非掺杂氮化镓层,其特征在于在所述缓冲层上面生长AlxInyGa1‑x‑yN/AluInvGa1‑u‑vN四元结构构成的分布式布拉格反射镜,其中,0<x<0.5,0<y<0.5,0<u<0.5,0<v<0.5,AlxInyGa1‑x‑yN层厚度为20‑70nm,AluInvGa1‑u‑vN层厚度为30‑80nm,重复周期数为15‑50。 |
地址 |
250101 山东省济南市高新区天辰大街1835号 |