| 发明名称 | 成膜装置和成膜方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种成膜装置，其特征在于，包括：腔室，其区分用于对基板实施成膜处理的处理空间；平台，其设置于上述腔室内，用于载置上述基板；基板用加热单元，其设置于上述平台上，用于对上述基板进行加热；喷头，其与上述平台相对设置，且具有多个气体喷出孔；气体供给机构，其通过上述喷头向上述腔室内供给处理气体；冷却单元，其设置于上述喷头的上方，对该喷头进行冷却；和喷头用加热单元，其设置于上述冷却单元的上方，隔着该冷却单元对上述喷头进行加热。 | ||
| 申请公布号 | CN101365823B | 申请公布日期 | 2012.07.18 |
| 申请号 | CN200780002035.7 | 申请日期 | 2007.06.19 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 掛川崇 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种成膜装置，其特征在于，包括：腔室，其区分用于对基板实施成膜处理的处理空间；平台，其设置于所述腔室内，用于载置所述基板；基板用加热单元，其设置于所述平台上，用于对所述基板进行加热；喷头，其与所述平台相对设置，且具有多个气体喷出孔；气体供给机构，其通过所述喷头向所述腔室内供给处理气体；冷却单元，其设置于所述喷头的上方，对该喷头进行冷却；和喷头用加热单元，其设置于所述冷却单元的上方，隔着该冷却单元对所述喷头进行加热。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||