发明名称 一种应用于激光切割的双CCD成像系统
摘要 本发明公开一种应用于激光切割的双CCD成像系统,属光电子领域,可应用于激光切割,激光钻孔等激光加工方面。本发明包括三个成像镜组和两个CCD相机,上高倍成像镜组和低倍成像镜组在不同波长的照明光源下工作,并共用一个CCD相机。本发明的目的在于公开一种新的CCD成像系统,不仅能满足LED晶圆激光切割高精度的成像要求,同时降低了设备成本以及图像处理负担,对于提高设备厂家的经济效益具有重要的意义。
申请公布号 CN102581495A 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN201210032833.7 申请日期 2012.02.14
申请人 中国科学院福建物质结构研究所 发明人 黄见洪;吴鸿春;翁文;刘华刚;葛燕;阮开明;邓晶;郑晖;李锦辉;史斐;戴殊韬;林文雄
分类号 B23K26/42(2006.01)I;B23K26/38(2006.01)I;G03B15/03(2006.01)I;G03B11/04(2006.01)I 主分类号 B23K26/42(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种应用于激光切割的双CCD成像系统,由上CCD相机(17),上高倍成像镜组(14),低倍成像镜组(13),红光虑光镜(11),绿光虑光镜(12),45度双色高反镜(9),45度双色高透镜(15),45度照明全反镜(10,16),45度照明双色镜(8),45度激光全反镜(6),点光源(7),上环形光源(5),聚焦镜组(4),下CCD相机(1),下高倍成像镜组(2)和下环形光源(3)组成;上环形光源(5)、点光源(7)和下环形光源(3)为为双色光源,下环形光源(3)从下方对工件(19)进行照明,上环形光源(5)和点光源(7)从上方对工件(19)进行照明;紫外激光(18)从水平方向入射,由45度激光全反镜(6)反射,经过聚焦镜组(4)聚焦于LED晶圆(19)上进行加工;在45度激光全反镜(6)上方,上高倍成像镜组(14)、低倍成像镜组(13),点光源(7)三者自上而下排列;上高倍成像镜组(14)和低倍成像镜组(13)共同使用上CCD相机(17)进行成像,分别使用不同波长的照明光源进行照明,两个镜组前放置针对各自照明光源的虑光镜;下高倍成像镜组(2)单独使用下CCD相机(1)从下方对工件(19)进行成像;上下CCD成像系统与激光聚焦加工系统是同光轴的,其特征在于:低倍成像镜组(13)与上高倍成像镜组(14)分别在两种不同波长的照明光源下工作,都成像于上CCD相机(17)。
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