发明名称 滤色片的制造方法、滤色片及具有该滤色片的显示装置
摘要 本发明提供一种滤色片的制造方法,其是一种在基板上具有呈彼此不同颜色的2个以上的像素组,构成所述像素组的各像素彼此被深色隔离壁隔离的滤色片的制造方法,其特征在于,形成所述深色隔离壁的工序包括下述(1)~(3)工序。(1)在贫氧气氛下对由深色组合物构成的层进行图案曝光的工序(图案曝光工序);(2)图案曝光之后,进行显影,形成深色隔离壁图案的工序(显影工序);(3)向该深色隔离壁图案照射2500mJ/cm2以上的曝光量的光,使其光固化的工序(后曝光工序)。如果利用本发明,能够提供可以位置精度良好地形成混色等少的像素而且低成本且高效率地制造滤色片的滤色片的制造方法、利用其制造的滤色片以及具有该滤色片的显示装置。
申请公布号 CN101371171B 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN200680052782.7 申请日期 2006.12.18
申请人 富士胶片株式会社 发明人 吉野晴彦
分类号 G02B5/20(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02B5/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 朱丹
主权项 一种滤色片的制造方法,其是制造在基板上具有呈彼此不同颜色的2个以上的像素组,构成所述像素组的各像素彼此被深色隔离壁隔离的滤色片的方法,其特征在于,形成所述深色隔离壁的工序包括下述(1)~(3)工序,(1)图案曝光工序,其是在贫氧气氛下对由包含着色剂、光聚合引发剂和多官能性单体且形成深色隔离壁时的光学浓度为2.5~6.0的深色组合物构成的层进行图案曝光的工序;(2)显影工序,其是在图案曝光之后,进行显影,形成深色隔离壁图案的工序;(3)后曝光工序,其是将以单面计为2500mJ/cm2~10000mJ/cm2的曝光量的光,向所述深色隔离壁图案的两面或上面照射使其光固化的工序。
地址 日本国东京都