发明名称 等离子体处理装置
摘要 本发明提供一种缝隙天线方式的微波等离子体处理装置(100),其具备:构成扁平波导管的平面天线板(31)及由导电性构件制成的外罩(34)。外罩(34)具备用于调整扁平波导管内的电场分布的作为第二波导管的短截线(43)。短截线(43)设有由导电性构件制成的外罩(34)。短截线(43)在俯视时,配置于与构成排列于平面天线板(31)的最外周的缝隙对的缝隙(32)重合的位置。利用短截线(43)的合适的配置,可以控制扁平波导管内的电场分布而生成均匀的等离子体。
申请公布号 CN101803472B 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN200880108012.9 申请日期 2008.09.26
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 太田龙作;足立光;中西敏雄;植田笃;康松润;保罗·莫罗兹;彼得·文特泽克
分类号 H05H1/46(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I 主分类号 H05H1/46(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 李伟;舒艳君
主权项 一种等离子体处理装置,其特征在于,具备:处理容器,其收容被处理体,并可以抽真空;透过板,其气密性地安装于所述处理容器的上部的开口中,使用于产生等离子体的微波透过;平面天线,其与所述透过板的上面相接触或者相邻近地配置,用于将微波导入所述处理容器内,且具有由导电性材料制成的平板状基材,形成有贯穿该平板状基材的多个缝隙;导电性构件,其从上方覆盖所述平面天线;第一波导管,其贯穿所述导电性构件而设置,向所述平面天线供给来自微波发生源的微波;至少一个第二波导管,其调节所述平面天线中的电场分布,利用插入所述导电性构件的在内部具有空洞的中空状构件,构成所述第二波导管的一部分或整体,或者,利用贯穿所述导电性构件的开口部来构成所述第二波导管的一部分或整体,或者,利用形成于所述导电性构件中的凹部来构成所述第二波导管的一部分或整体。
地址 日本东京都