发明名称 信息处理装置、信息处理方法
摘要 解决以往无法有效且迅速地调节半导体制造参数的问题。一种信息处理装置,包括:目标值接受部(101),其接受半导体制造工艺的一个以上种类的目标值;参数获取部(102),其获取执行半导体制造工艺时的一种以上种类的参数的值;执行结果获取部(103),其获取表示半导体制造工艺的执行结果的一种以上种类的执行结果;储存部(105),其将执行结果、目标值、参数的值对应起来储存;相关性获取部(107),其获取储存的执行结果、目标值以及参数的值之间的相关性信息;辅助信息获取部(108),其使用由相关性获取部(107)获取的相关性信息来获取辅助信息,该辅助信息是与针对目标值接受部(101)所接受的目标值相关性高的参数有关的信息;输出部,其输出由辅助信息获取部获取的辅助信息。
申请公布号 CN101903975B 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN200880122229.5 申请日期 2008.12.17
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 山上宗隆
分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 柳春雷;南霆
主权项 一种信息处理装置,包括:目标值接受部,其接受一个以上种类的目标值,该目标值是表示使用制造装置对被处理基片进行的预定的半导体制造工艺的目标的值;参数获取部,其获取一个以上种类的参数的值,该参数是与所述制造装置有关的执行所述半导体制造工艺时的参数;执行结果获取部,其获取一个以上种类的执行结果,该执行结果是表示执行了所述半导体制造工艺的结果的值;储存部,其将由所述执行结果获取部获取的执行结果、由所述目标值接受部接受的目标值、以及由所述参数获取部获取的参数的值对应起来储存;相关性获取部,其获取相关性信息,该相关性信息是与所述储存部所储存的所述执行结果、所述目标值以及所述参数的值之间的相关性有关的信息;辅助信息获取部,其使用由所述相关性获取部获取的相关性信息来获取辅助信息,该辅助信息是与针对所述目标值接受部所接受的目标值相关性高的参数有关的信息;以及输出部,其输出由所述辅助信息获取部获取的辅助信息。
地址 日本东京都