发明名称 | 一种大面积纳米压印光刻的装置和方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种大面积纳米压印光刻的装置和方法。它引入一种氟聚合物基薄膜结构复合软模具,压印过程采用“气体辅助施压”和模具微进给“压力施压”方式;脱模基于氟聚合物基极低表面能,并结合“两次固化”和“揭开”式脱模方法,采用微小的脱模力即可实现大面积脱模。本发明实现了在各种衬底包括非平整(弯曲、翘曲或者台阶)或曲面或者易碎衬底上制造大面积微纳米结构,具有复形精度高、压印面积大、效率高、成本低、模具寿命长的显著优势,适用于LED纳米图形化技术、光学器件(如光学透镜)、蝶式太阳能聚光器、微流控器件等器件的制造。 | ||
申请公布号 | CN102591143A | 申请公布日期 | 2012.07.18 |
申请号 | CN201210050571.7 | 申请日期 | 2012.02.29 |
申请人 | 青岛理工大学 | 发明人 | 兰红波;丁玉成 |
分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人 | 张勇 |
主权项 | 一种大面积纳米压印光刻的装置,其特征是,它包括:工作台、衬底、液态有机聚合物、模板、气阀板,气腔室、紫外光光源、压印机构、真空管路、压力管路;其中,涂铺有液态有机聚合物的整片衬底固定于工作台之上;模板通过真空管路吸附在气阀板的底面,气阀板固定在气腔室的底面,紫外光光源固定在气腔室的顶面;压印机构与气腔室相连;压力管路与气腔室的进气口相连;所述模板为氟聚合物基薄膜结构复合软模具,它包括支撑层和特征结构层,其中支撑层具有透明、高度柔性和薄膜结构的特性,特征结构层具有低的表面能、高弹性模量和透明的特性,在特征层设有纳米结构腔。 | ||
地址 | 266033 山东省青岛市四方区抚顺路11号 |