10560纳米带通红外滤光片及其制作方法

摘要

本发明公开了一种10560纳米带通红外滤光片及其制作方法，其特征是：采用尺寸为Φ25.4×0.5mm的单晶锗Ge作基板；其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’，表面光洁度优于60/40；镀膜材料选择硫化锌ZnS和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积主膜系面薄膜：Sub|HLHLH2LHLHLHLHLH2LHLHL|Air和干涉截止膜系面薄膜：Sub|0.76(0.5HL0.5H)5 0.5(0.5HL0.5H)5 0.35(0.5HL0.5H)5 0.25(0.5HL0.5H)6 0.16(0.5HL0.5H)6|Air，其镀膜工艺条件是在高真空(真空度≤10-3Pa)环境下进行300℃以下的加热烘烤，采用物理气相沉积方式加以离子源辅助镀膜。本发明提供的一种10560纳米带通红外滤光片的制作方法得到的10560纳米带通红外滤光片，峰值透过率可达90％以上，极大的提高信噪比，很好的抑制其他气体的干扰，提高仪器探测精度和效能。

主权项

一种10560纳米带通红外滤光片，其特征是：(1)采用尺寸为Φ25.4×0.5mm的单晶锗Ge作基板；其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’；表面光洁度优于60/40；(2)镀膜材料选择硫化锌ZnS和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积多层干涉薄膜，所述多层干涉薄膜符合下述第3结构特征：(3)主膜系面薄膜结构采用Sub|HLHLH2LHLHLHLHLH2LHLHL|Air；干涉截止膜系面薄膜采用以下结构：Sub|0.76(0.5HL0.5H)5 0.5(0.5HL0.5H)5 0.35(0.5HL 0.5H)5 0.25(0.5HL 0.5H)6 0.16(0.5HL 0.5H)6|Air膜系中符号含义分别为：Sub为基板、Air为空气、H为λc/4单晶锗膜层、L为λc/4硫化锌膜层、λc＝10560纳米、结构式中数字为膜层的厚度系数、结构式中的指数是膜堆镀膜的周期数。