发明名称 |
提高晶圆清洁度的清洗方法及清洗甩干设备 |
摘要 |
本发明提供一种能够提高晶圆清洁度的清洗甩干方法,包括以下步骤:提供一清洗台,将晶圆水平放置于所述清洗台上;将清洗喷头设置于所述晶圆的圆心上方,所述清洗喷头的出液方向倾斜于所述晶圆的垂线方向;晶圆启动水平自转,所述清洗喷头启动水平移动;开始清洗过程,所述清洗喷头喷出清洗液至晶圆表面,所述清洗喷头水平移动至偏离所述晶圆圆心的位置停止;结束清洗,所述清洗喷头停止供应清洗液,所述晶圆继续水平自转,以甩干所述晶圆。本发明还提供了一种清洗甩干设备。本发明能够极大地提高晶圆清洁度,减少液体杂质及颗粒杂质的残留问题,对设备的改进简单易行,成本低廉,在提高晶圆产品的性能、成品率和可靠性的同时节约了工艺成本。 |
申请公布号 |
CN102580941A |
申请公布日期 |
2012.07.18 |
申请号 |
CN201210045385.4 |
申请日期 |
2012.02.27 |
申请人 |
上海集成电路研发中心有限公司 |
发明人 |
王毅博 |
分类号 |
B08B3/02(2006.01)I;F26B5/08(2006.01)I |
主分类号 |
B08B3/02(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种能够提高晶圆清洁度的清洗甩干方法,包括:提供一清洗台,将晶圆水平放置于所述清洗台上;将清洗喷头设置于所述晶圆的圆心上方,所述清洗喷头的出液方向倾斜于所述晶圆的垂线方向;晶圆启动水平自转,所述清洗喷头启动水平移动;开始清洗过程,所述清洗喷头喷出清洗液至晶圆表面,所述清洗喷头水平移动至偏离所述晶圆圆心的位置停止;结束清洗,所述清洗喷头停止供应清洗液,所述晶圆继续水平自转,以甩干所述晶圆。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高斯路497号 |