化学气相沉积设备

摘要

本发明提供一种化学气相沉积设备。所述设备包括反应室、气体引入单元和气体排出单元。气体室包括基座和反应炉，在基座上装载晶片，在反应炉中用化学气相沉积处理晶片。气体引入单元设置在反应室的外壁，以从反应炉外部向反应炉中心部分供应反应气体。气体排出单元设置在反应室的中心部分，以在反应气体被用于在反应炉中的反应之后将反应气体排放到反应室的上面的外部或下面的外部。因此，即使当增加工艺压力以生长高温沉积层时，室内的气体强度也可保持在基本均匀的状态。

主权项

一种化学气相沉积设备，包括：反应室，包括基座和反应炉，在基座上装载晶片，在反应炉中用化学气相沉积处理晶片；气体引入单元，设置在反应室的外壁，以从反应炉外部向反应炉中心部分供应反应气体；气体排出单元，设置在反应室的中心部分，以在反应气体被用于在反应炉中的反应之后将反应气体排放到反应室的上面的外部或下面的外部；流控制单元，所述流控制单元设置在气体引入单元和气体排出单元之间，以形成从气体引入单元到气体排出单元的均匀的气流，其中，流控制单元包括：倾斜障壁，设置在反应炉的外部，以在反应室中限定反应炉，并在调节反应气体的压力的同时，将从气体引入单元供应的反应气体引入到反应炉中，倾斜障壁以预定角度倾斜；多个气体室，设置在反应室的外壁和倾斜障壁之间，用于存储从气体引入单元供应的反应气体，并穿过倾斜障壁供应反应气体；至少一个分开构件，分隔气体室使得气体室具有不同的长度。