| 发明名称 | 可变光衰减器件及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种可变光衰减器件及其制备方法，该器件包括：硅基座以及与所述硅基座键合的玻璃基座，所述硅基座设置有垂直光反射面、以及以所述光反射面为一侧面的加热空腔，所述加热空腔与所述玻璃基座的部分上表面围成密封腔体，在所述密封腔体内的玻璃基座的上表面上设置有加热部件。本发明的可变光衰减器件可满足振动环境中对器件的可靠性要求、成本低、且性能高。 | ||
| 申请公布号 | CN101881881B | 申请公布日期 | 2012.07.18 |
| 申请号 | CN201010199618.7 | 申请日期 | 2010.06.08 |
| 申请人 | 北京大学 | 发明人 | 吴文刚;陈庆华;杜博超;张海霞;郝一龙 |
| 分类号 | G02B26/08(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I | 主分类号 | G02B26/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王莹 |
| 主权项 | 一种可变光衰减器件，其特征在于，该器件包括：硅基座以及与所述硅基座键合的玻璃基座，所述硅基座设置有垂直光反射面、以及以所述光反射面为一侧面的加热空腔，所述光反射面晶向为{1，1，1}，所述加热空腔与所述玻璃基座的部分上表面围成密封腔体，在所述密封腔体内的玻璃基座的上表面上设置有加热部件。 | ||
| 地址 | 100871 北京市海淀区颐和园路5号 | ||