| 发明名称 | 层叠膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可制造即使弯曲阻隔性及导电性也难以降低的层叠膜的方法。在该方法中，通过在树脂膜上形成阻隔膜及透明导电膜来制造层叠膜。阻隔膜的形成通过辊间放电等离子体CVD法来进行。透明导电膜的形成优选通过物理气相沉积法来形成。作为树脂膜，优选使用聚酯树脂膜或聚烯烃树脂膜。 | ||
| 申请公布号 | CN102598158A | 申请公布日期 | 2012.07.18 |
| 申请号 | CN201080048041.8 | 申请日期 | 2010.10.26 |
| 申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 长谷川彰;黑田俊也;真田隆 |
| 分类号 | H01B13/00(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/02(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I;H05B33/28(2006.01)I | 主分类号 | H01B13/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种层叠膜的制造方法，其是通过在树脂膜上形成阻隔膜及透明导电膜来制造层叠膜的方法，其特征在于，通过辊间放电等离子体CVD法形成所述阻隔膜。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||