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发明名称 SUBSTRATE CLEANING LIQUID FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND CLEANING METHOD
摘要
申请公布号 KR101166002(B1) 申请公布日期 2012.07.18
申请号 KR20067015165 申请日期 2005.02.02
申请人 发明人
分类号 H01L21/304;C11D7/06;C11D7/26;C11D7/34;C11D11/00;H01L21/02;H01L21/306;H01L21/321 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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