发明名称 |
Pt/Ti/SiO<sub>2</sub>/Si衬底的宽波段薄膜型光电探测器的制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种基于Pt/Ti/SiO2/Si衬底的宽波段薄膜型光电探测器的制备方法,其中包括:衬底的清洗,薄膜的生长,电极的制备。其特征在于采用湿化学法制备Mn-Co-Ni-O薄膜,选取醋酸锰、醋酸钴、醋酸镍为原料,以冰醋酸作溶剂,分别配制导电类型是n和p的前驱体溶液,然后使用匀胶机和快速退火炉来制备薄膜材料。采用本方法制备的探测器可以实现紫外-可见-红外宽波段探测。 |
申请公布号 |
CN102593242A |
申请公布日期 |
2012.07.18 |
申请号 |
CN201210019112.2 |
申请日期 |
2012.03.22 |
申请人 |
中国科学院上海技术物理研究所 |
发明人 |
侯云;黄志明;高艳卿;吴敬;张雷博;周炜;张琰;褚君浩 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
郭英 |
主权项 |
一种基于Pt/Ti/SiO2/Si衬底的宽波段薄膜型光电探测器的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1).衬底的清洗:选择表面可以导电的Pt/Ti/SiO2/Si衬底,用常规的方法清洗,去除衬底表面的杂质和污物,然后烘干备用;2).薄膜的生长:采用专利ZL:200610030144.7中所述的湿化学法制备Mn‑Co‑Ni‑O薄膜,选取醋酸锰、醋酸钴、醋酸镍为原料,以冰醋酸作溶剂,分别配制导电类型是n和p的前驱体溶液,然后使用匀胶机和快速退火炉来制备薄膜材料;先是在Pt/Ti/SiO2/Si衬底(1)上生长导电类型为n型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(2),在导电类型为n型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(2)上继续生长导电类型为p型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(3),从而制备出导电类型为p型和n型Mn‑Co‑Ni‑O薄膜叠加结构,形成pn结;3).电极的制备:采用刻蚀工艺去除一部分导电类型为n型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(2)和导电类型为p型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(3),露出衬底上的部分导电层作为底电极(5);在导电类型为p型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(3)的部分膜面上用掩模板保护,制备上一块导电层作为顶电极(4)。 |
地址 |
200083 上海市虹口区玉田路500号 |