发明名称 Pt/Ti/SiO<sub>2</sub>/Si衬底的宽波段薄膜型光电探测器的制备方法
摘要 本发明提供了一种基于Pt/Ti/SiO2/Si衬底的宽波段薄膜型光电探测器的制备方法,其中包括:衬底的清洗,薄膜的生长,电极的制备。其特征在于采用湿化学法制备Mn-Co-Ni-O薄膜,选取醋酸锰、醋酸钴、醋酸镍为原料,以冰醋酸作溶剂,分别配制导电类型是n和p的前驱体溶液,然后使用匀胶机和快速退火炉来制备薄膜材料。采用本方法制备的探测器可以实现紫外-可见-红外宽波段探测。
申请公布号 CN102593242A 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN201210019112.2 申请日期 2012.03.22
申请人 中国科学院上海技术物理研究所 发明人 侯云;黄志明;高艳卿;吴敬;张雷博;周炜;张琰;褚君浩
分类号 H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 郭英
主权项 一种基于Pt/Ti/SiO2/Si衬底的宽波段薄膜型光电探测器的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1).衬底的清洗:选择表面可以导电的Pt/Ti/SiO2/Si衬底,用常规的方法清洗,去除衬底表面的杂质和污物,然后烘干备用;2).薄膜的生长:采用专利ZL:200610030144.7中所述的湿化学法制备Mn‑Co‑Ni‑O薄膜,选取醋酸锰、醋酸钴、醋酸镍为原料,以冰醋酸作溶剂,分别配制导电类型是n和p的前驱体溶液,然后使用匀胶机和快速退火炉来制备薄膜材料;先是在Pt/Ti/SiO2/Si衬底(1)上生长导电类型为n型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(2),在导电类型为n型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(2)上继续生长导电类型为p型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(3),从而制备出导电类型为p型和n型Mn‑Co‑Ni‑O薄膜叠加结构,形成pn结;3).电极的制备:采用刻蚀工艺去除一部分导电类型为n型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(2)和导电类型为p型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(3),露出衬底上的部分导电层作为底电极(5);在导电类型为p型的Mn‑Co‑Ni‑O薄膜(3)的部分膜面上用掩模板保护,制备上一块导电层作为顶电极(4)。
地址 200083 上海市虹口区玉田路500号
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