发明名称 等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法及其装置
摘要 本发明的等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法及其装置,其特征是在镀有一定厚度的保护膜(2)的玻璃基片(1)上覆盖具有特定形状的金属掩膜(4),将玻璃基片(1)放入射频溅射镀膜机(3)中的靶(6)位置上以高频溅射一定时间后,测量被金属掩膜(4)遮挡的区域和未遮挡区域的保护膜(2)厚度差,可以计算出溅射速率,从而得出保护膜耐溅射性评估方法。本发明可以高效、准确的测试等离子显示屏保护膜的耐溅射性能,并且测试原理与等离子屏的工作原理较近似,结果可信度高。
申请公布号 CN101339175B 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN200810022515.6 申请日期 2008.08.14
申请人 南京华显高科有限公司 发明人 孙青云;朱立锋;王保平;林青园;李霞
分类号 G01N33/00(2006.01)I 主分类号 G01N33/00(2006.01)I
代理机构 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人 夏平
主权项 一种等离子显示屏保护膜耐溅射性测试方法,其特征是它包括以下步骤:a.在玻璃基片(1)上镀制保护膜(2);b.在镀有保护膜(2)的玻璃基片(1)上贴敷特定形状的金属掩膜(4),保护膜(2)的一部分被贴敷的金属掩膜(4)覆盖,另一部分没有被贴敷的金属掩膜(4)覆盖,将贴敷有金属掩膜(4)的玻璃基片(1)放在射频溅射镀膜机(3)的靶(6)位置上;c.打开射频溅射镀膜机(3)的节流阀(10)引入工作气体;d.打开射频溅射镀膜机(3)开始放电,工作气体受激发产生工作气体离子(8)对贴敷有金属掩膜(4)的玻璃基片(1)进行高频离子溅射;e.溅射一段时间后,将去除金属掩膜(4)的玻璃基片(1)放到表面形貌测定仪上测量被金属掩膜(4)覆盖部分和未被金属掩膜(4)覆盖的保护膜(2)的厚度差;f.用厚度差除以溅射时间,得到保护膜的溅射率,从而完成保护膜耐溅射性的测试。
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