发明名称 电路连接材料、电路部件的连接结构及电路部件的连接结构的制造方法
摘要 本发明提供一种电路连接材料,其为将在第1电路基板的主面上形成有第1电路电极的第1电路部件与在第2电路基板的主面上形成有第2电路电极的第2电路部件以第1和第2电路电极对置的状态进行电连接的电路连接材料,包括含有含氟有机化合物的粘接剂成分,该粘接剂成分含有相对其总量以硅原子换算为0.10质量%以下的含硅化合物。
申请公布号 CN101506321B 申请公布日期 2012.07.18
申请号 CN200780030716.4 申请日期 2007.08.20
申请人 日立化成工业株式会社 发明人 有福征宏;望月日臣;小林宏治;中泽孝;立泽贵;增田克之;江尻贵子
分类号 C09J9/02(2006.01)I;C09J5/06(2006.01)I;C09J11/08(2006.01)I;C09J179/08(2006.01)I;H01R11/01(2006.01)I;H05K3/36(2006.01)I;H01B1/00(2006.01)I;H01B1/22(2006.01)I 主分类号 C09J9/02(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶
主权项 一种电路连接材料,其为将在第1电路基板的主面上形成有第1电路电极的第1电路部件与在第2电路基板的主面上形成有第2电路电极的第2电路部件以所述第1和所述第2电路电极对置的状态进行电连接的电路连接材料,包括含有含氟有机化合物的粘接剂成分,所述含氟有机化合物含有具有硅酮结构的含氟聚酰亚胺树脂,所述含氟聚酰亚胺树脂是通过使含氟四羧酸二酐和二胺化合物、四羧酸二酐和含氟二胺化合物、或者含氟四羧酸二酐和含氟二胺化合物进行缩合反应而得到的树脂,该粘接剂成分含有相对其总量以硅原子换算为0.10质量%以下的含硅化合物。
地址 日本东京都
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