发明名称 Verfahren und Einrichtung zur rastermikroskopischen Abbildung eines Objektes
摘要 Beschrieben sind ein Verfahren und eine Einrichtung zur rastermikroskopischen Abbildung eines Objektes (28). Es ist vorgesehen, eine Vielzahl von Objektpunkten mittels eines Abtaststrahls (14) in aufeinanderfolgenden Abtastzeitintervallen abzutasten, die Intensität der von dem jeweils abgetasteten Objektpunkt abgegebenen Strahlung innerhalb des zugehörigen Abtastintervalls mehrmals zu erfassen, einen Intensitätsmittelwert aus den in dem jeweils abgetasteten Objektpunkt erfassten Intensitäten als Mittelwert-Bildpunktsignal zu bestimmen, und die Mittelwert-Bildpunktsignale zu einem Mittelwert-Rasterbild zusammenzusetzen. Ferner ist vorgesehen, aus den in dem jeweils abgetasteten Objektpunkten erfassten Intensitäten zusätzlich einen Intensitätsvarianzwert als Varianz-Bildpunktsignal zu bestimmen und die Varianz-Bildpunktsignale zu einem Varianz-Rasterbildsignal zusammenzusetzen.
申请公布号 DE102011000090(A1) 申请公布日期 2012.07.12
申请号 DE201110000090 申请日期 2011.01.11
申请人 LEICA MICROSYSTEMS CMS GMBH 发明人 BIRK, HOLGER, DR.;WIDZGOWSKI, BERND;NISSLE, HOLGER
分类号 G02B21/00;G01B11/24 主分类号 G02B21/00
代理机构 代理人
主权项
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