温控热边缘环组件，电浆处理装置以及减少一电浆处理系统内的程序漂移之方法

摘要

本发明揭示一种用于环绕一电浆反应室内之一基板支架的温控热边缘环组件。该组件包括一导电下部环、一陶瓷中间环及一上部环。该中间环覆盖该下部环，并且用于经由该下部环黏接至一RF电极。该上部环覆盖该中间环，并具有曝露于一电浆反应室之一内部的一上部表面。