发明名称 离子植入机、离子植入机之内部结构以及离子植入机内之涂层之形成方法
摘要 一种离子植入机,包括一反应室及一涂层。反应室系接收基板,并于基板上提供一进行离子植入制程之空间。涂层系配至于反应室之内壁,以减少基板之污染。涂层与基板包括相同之材料。
申请公布号 TWI368263 申请公布日期 2012.07.11
申请号 TW097125144 申请日期 2008.07.03
申请人 高美科股份有限公司 南韩 发明人 张敬翼;芮庚焕;金三雄;林容涉
分类号 H01L21/265 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人 祁明辉 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2;林素华 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2
主权项
地址 南韩