发明名称 |
离子植入机、离子植入机之内部结构以及离子植入机内之涂层之形成方法 |
摘要 |
一种离子植入机,包括一反应室及一涂层。反应室系接收基板,并于基板上提供一进行离子植入制程之空间。涂层系配至于反应室之内壁,以减少基板之污染。涂层与基板包括相同之材料。 |
申请公布号 |
TWI368263 |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
TW097125144 |
申请日期 |
2008.07.03 |
申请人 |
高美科股份有限公司 南韩 |
发明人 |
张敬翼;芮庚焕;金三雄;林容涉 |
分类号 |
H01L21/265 |
主分类号 |
H01L21/265 |
代理机构 |
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代理人 |
祁明辉 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2;林素华 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2 |
主权项 |
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地址 |
南韩 |