极端紫外光（ＥＵＶ）光源

摘要

一雷射产生的电浆极端紫外光光源被揭露，其有一配置于电浆室内以反射产生于其内之极端紫外光的光学元件，及一雷射入射窗口。为此方面，该极端紫外光光源可被组装来使该光学元件暴露于一气态蚀刻剂气压以清理光学元件，同时该窗口被暴露于一较低的气态蚀刻剂气压以避免窗口镀膜退化。在另一方面，一极端紫外光光源可包含一目标材料、一光学放大器，以及至少一光学元件，该目标材料可沿一光路径设置以参与一与在该光路径上之光的第一交互作用，该至少一光学元件导引来自第一交互作用散射的光子进入该光学放大器以在该光路径上产生一雷射光束，以供一与目标材料的随后交互作用，以产生一极端紫外光放射电浆。