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经营范围
发明名称
测量电镀溶液中化学物浓度的方法及设备
摘要
一种电化学电镀系统,其含有一或多个用于贮存电镀溶液的电镀槽储槽(plating cell reservoirs),及与该一或多个电镀槽储槽流体性相通的一化学分析仪(chemical analyzer)。该化学分析仪被配置成用以测量该电镀溶液的化学品浓度。此电镀系统还含有一配管系统,其被配置成用以促进该一或多个电镀槽储槽与该化学分析仪间的该流体性相通,并实质性地将该化学分析仪与该一或多个电镀槽储槽之一或多个电镀槽所产生的电子干扰隔离。
申请公布号
TWI367962
申请公布日期
2012.07.11
申请号
TW095127375
申请日期
2006.07.26
申请人
应用材料股份有限公司 美国
发明人
何曼亚力山卓F;罗宾诺维奇叶夫基尼;塔凯瑟琳P
分类号
C25D21/14
主分类号
C25D21/14
代理机构
代理人
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项
地址
美国
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