| 发明名称 | 单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光隔离器用单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器，该光隔离器用单晶在波长1064nm以上的波长区域或低于1064nm的波长区域内，具备超过TGG单晶的法拉第旋转角，且能够实现大型化。本发明涉及的单晶的特征在于，由铽铝石榴石单晶构成，主要是铝的一部分被镥取代。 | ||
| 申请公布号 | CN102575382A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201080046622.8 | 申请日期 | 2010.10.20 |
| 申请人 | 株式会社藤仓;独立行政法人物质·材料研究机构 | 发明人 | 真田和夫;岛村清史;比略拉·恩卡纳西翁·安东尼亚·加西亚 |
| 分类号 | C30B29/28(2006.01)I;G02B27/28(2006.01)I | 主分类号 | C30B29/28(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 苗堃;金世煜 |
| 主权项 | 一种单晶，由铽铝石榴石单晶构成，主要是铝的一部分被镥即Lu取代。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||