化学机械抛光头抛光压力控制方法及其装置

摘要

本发明提供了一种化学机械抛光头抛光压力控制方法及其装置，涉及晶圆化学机械抛光设备技术领域。主要具有超精密减压阀、电空变换器、空气继电器、隔膜汽缸；加压汽缸通过超精密减压阀的控制来克服负载的自身重力；通过空气继电器的PID调节消除外界气源的波动；上位机控制的输出模拟量控制电空变换器、空气继电器、隔膜汽缸的方法来实现抛光的恒定压力控制和压力大小连续可调。采用方法或装置，可有效减少压力波动造成的晶圆破损等现象，得到持续稳定、连续可调的抛光压力，提高晶片的表面抛光质量；该方法合理、原理独特、工艺性好；该装置结构简单，使用方便。特别适用于晶圆化学机械抛光设备的抛光压力控制。

主权项

一种化学机械抛光头抛光压力控制方法，其特征在于：加压汽缸通过超精密减压阀的控制来克服负载的自身重力；通过空气继电器的PID调节消除外界气源的波动；上位机控制的输出模拟量控制电空变换器、空气继电器、隔膜汽缸的方法来实现抛光的恒定压力控制和压力大小连续可调。