发明名称 |
一种磨料流精密研磨抛光设备 |
摘要 |
本实用新型的目的是提供一种磨料流精密研磨抛光设备,包括机身,液压站、上研磨机构、下研磨机构、推进合模机构、控制台。所述机身为C型机身,所述研磨机构包括研磨缸以及用于推动磨料缸工作的动力缸,下研磨机构固定在工作台面下方,上研磨机构固定在合模机构下方的推进板上,工件通过合模机构固定在上、下研磨机构之间,上下研磨缸内的活塞反复推动磨料流过工件型腔进行研磨抛光。通过磨料研磨抛光的工件型腔,表面光洁度达到镜面级要求,有效消除工件残余应力,最终提高工件质量。 |
申请公布号 |
CN202317958U |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN201120364845.0 |
申请日期 |
2011.09.23 |
申请人 |
浙江师范大学 |
发明人 |
张克华;袁亮亮;梅广益;程光明;闵力;许永超;张嘉瑜 |
分类号 |
B24B35/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24B35/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种磨料流精密研磨抛光设备,包括机身(2)、上研磨机构(4)、下研磨机构(7)、推进合模机构(3)、控制台(8),其特征在于:研磨机构包括研磨缸(42)以及用于推动磨料缸工作的动力缸(41),下研磨机构(7)固定在工作台面(6)下方,上研磨机构(4)固定在推进合模机构(3)下方的推进板(32)上,所述推进合模机构(3)包括推进合模运动的液推进缸(31)、推进板(32)以及夹持工件(5)的夹具(33),研磨缸包括研磨缸筒(42)及活塞(43),研磨活塞(43)上装有青铜套(44),机身(2)上设有液压站动力系统(1)以及带触摸屏的PLC控制系统装置控制台(8)。 |
地址 |
321004 浙江省金华市迎宾大道688号浙江师范大学 |