具有光稳性聚合物终点检测窗的化学机械抛光垫及相应的抛光方法

摘要

本发明提供一种化学机械抛光垫，包括：具有抛光表面的抛光层；和光稳性聚合物终点检测窗，该检测窗包括含有氨基部分的芳香聚胺与异氰酸酯封端、含有未反应-NCO部分的预聚多元醇进行聚氨酯反应的产物，以及包括至少一种UV吸收剂和受阻胺光稳定剂的光稳定剂成分；其中以＜95％的氨基部分与未反应-NCO部分的化学计量比来提供芳香聚胺和异氰酸酯封端的预聚多元醇；其中光稳性聚合物终点检测窗在持续等轴拉伸载荷为1kPa、60。℃恒温100分钟时测定具有≤0.02％的依时应变并且在380纳米的波长下对于1.3mm的窗厚度具有≥15％的双光通量；并且，其中抛光表面适用于抛光选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基板。此外，本发明还提供了使用本发明的化学机械抛光垫抛光基材(优选半导体晶片)的方法。

主权项

一种化学机械抛光垫，所述抛光垫包括：具有抛光表面的抛光层；和，光稳性聚合物终点检测窗，该检测窗包括：含有胺部分的芳香多胺与异氰酸酯封端、含有未反应‑NCO部分的预聚多元醇的聚氨酯反应产物；以及，含有至少一种UV吸收剂和受阻胺光稳定剂的光稳定剂成分；其中以＜95％的胺部分与未反应‑NCO部分的化学计量比来提供芳香多胺和异氰酸酯封端的预聚多元醇；其中光稳性聚合物终点检测窗在恒定轴向拉伸载荷为1kPa、60℃恒温100分钟时测定具有≤0.02％的依时应变并且在380纳米的波长对于1.3mm的窗厚度具有≥15％的双光通量；并且，其中抛光表面适用于抛光选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基板。