| 发明名称 | 光谱纯度滤光片、光刻设备以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光谱纯度滤光片，尤其是用在将EUV辐射用作投影束的光刻设备中。所述光谱纯度滤光片包括衬底内的多个孔。孔由壁限定，壁具有侧表面，所述侧表面相对于衬底的前表面的法线是倾斜的。 | ||
| 申请公布号 | CN102576194A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201080042251.6 | 申请日期 | 2010.08.02 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·亚库宁;V·班尼恩;M·凡赫彭;W·索尔;M·杰克 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B5/00(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 吴敬莲 |
| 主权项 | 一种光谱纯度滤光片，具有多个孔，所述滤光片包括：衬底，包括第一表面；和多个壁，所述壁具有限定通过衬底的多个孔的侧表面，其中所述侧表面相对于第一表面的法线是倾斜的。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||