发明名称 聚合物、其制备方法及包含该聚合物的抗蚀剂组合物
摘要 提供了一种包含由下式(1)表示的重复单元的共聚物:[化学式1]<img file="dsa00000645988900011.GIF" wi="1159" he="339" />,其中R<sub>1</sub>表示烷二基基团、杂烷二基基团、环烷二基基团、杂环烷二基基团、亚芳基基团、杂亚芳基基团或烷基亚芳基基团;R<sub>2</sub>表示氢原子、烷基基团、杂烷基基团、环烷基基团、杂环烷基基团、芳基基团、杂芳基基团、烷氧基基团或烷基烷氧基基团;R<sub>3</sub>、R<sub>4</sub>、R<sub>5</sub>和R<sub>6</sub>各自独立地表示氢原子或者含有1-5个碳原子的烷基基团;n1表示0-10的整数;n2表示0-10的整数。当被掺入抗蚀剂组合物时,所述共聚物可提供具有高敏感性、高分辨率、高抗刻蚀性和较低除气量的令人满意的抗蚀图案。
申请公布号 CN102558523A 申请公布日期 2012.07.11
申请号 CN201110447867.8 申请日期 2011.12.23
申请人 锦湖石油化学株式会社 发明人 吴贞薰;韩俊熙;金兑坤;朱炫相
分类号 C08G63/66(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I 主分类号 C08G63/66(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 过晓东;谭邦会
主权项 1.一种共聚物,其包含由下式(1)表示的重复单元:[化学式1]<img file="FSA00000645989100011.GIF" wi="1039" he="310" />其中R<sub>1</sub>表示选自烷二基基团、杂烷二基基团、环烷二基基团、杂环烷二基基团、亚芳基基团、杂亚芳基基团和烷基亚芳基基团中的任一个;R<sub>2</sub>表示选自氢原子、烷基基团、杂烷基基团、环烷基基团、杂环烷基基团、芳基基团、杂芳基基团、烷氧基基团和烷基烷氧基基团中的任一个;R<sub>3</sub>、R<sub>4</sub>、R<sub>5</sub>和R<sub>6</sub>各自独立地表示选自氢原子和含有1-5个碳原子的烷基基团中的任一个;n1表示0-10的整数;和n2表示0-10的整数。
地址 韩国首尔