发明名称 | 一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液及制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液及制备方法,把硅片置入如下溶液中:包括组分:酸5-10%,有机醇5-10%,水80-85%;以重量百分比计;所述酸为草酸或浓度为85%的磷酸,所述有机醇为乙醇或丙三醇,所述水为去离子水;以硅片为阳极,以不锈钢或惰性电极材料为阴极,在40-60V电压下,处理1-8小时,取出硅片,即可得到双面纳米孔硅片;本发明采用硅片无氟阳极氧化技术工艺,该方法与环境兼容性好,具有环保的特点;因溶液为室温,简化了硅片的处理工序;本发明处理后的硅片表面纳米孔的直径和深度根据工艺调整,纳米孔的分布密度也可根据工艺可调,这样降低了成本,提高了光的转化效率。 | ||
申请公布号 | CN102560602A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
申请号 | CN201210087659.6 | 申请日期 | 2012.03.29 |
申请人 | 河海大学常州校区 | 发明人 | 蒋永锋;包晔峰;杨可 |
分类号 | C25D11/32(2006.01)I | 主分类号 | C25D11/32(2006.01)I |
代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人 | 董建林 |
主权项 | 一种用于制备硅片表面纳米孔阵列的溶液,其特征在于,包括如下组分:酸5‑10%,有机醇5‑10%,水80‑85%;以重量百分比计;所述酸为草酸或浓度为85%的磷酸,所述有机醇为乙醇或丙三醇,所述水为去离子水。 | ||
地址 | 213022 江苏省常州市新北区晋陵北路200号 |