发明名称 放射线照相装置和放射线照相系统
摘要 一种放射线照相装置和放射线照相系统。所述放射线照相装置包括第一光栅单元、光栅图案单元、放射线图像检测器。所述第一光栅单元具有:多个放射线屏蔽单元,屏蔽从所述放射线源发射的放射线;以及基板,在所述基板上布置第一放射线屏蔽单元,且所述基板使得从所述放射线源发射的放射线能够穿透基板。所述光栅图案单元具有与放射线图像的图案周期实质上一致的周期。所述放射线图像检测器检测由所述光栅图案单元遮蔽的放射线图像,且具有:多个像素,将放射线转换为电荷并加以蓄积;以及基板。所述第一光栅单元的基板的热膨胀系数与所述放射线图像检测器的基板的热膨胀系数实质上相同。
申请公布号 CN102551765A 申请公布日期 2012.07.11
申请号 CN201110402362.X 申请日期 2011.11.30
申请人 富士胶片株式会社 发明人 岩切直人;多田拓司
分类号 A61B6/00(2006.01)I 主分类号 A61B6/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 杨静
主权项 一种放射线照相装置,包括:第一光栅单元,被布置在从放射线源发射的放射线的行进方向上,且具有:多个放射线屏蔽单元,屏蔽从所述放射线源发射的放射线;以及基板,在所述基板上布置第一放射线屏蔽单元,且所述基板使得从所述放射线源发射的放射线能够穿透基板;光栅图案单元,具有与放射线图像的图案周期实质上一致的周期,所述放射线图像是由已通过所述第一光栅单元的放射线形成的;以及放射线图像检测器,检测由所述光栅图案单元遮蔽的放射线图像,且具有:多个像素,将放射线转换为电荷并加以蓄积;以及基板,在所述基板上以二维方式布置所述像素,其中,所述第一光栅单元的基板的热膨胀系数与所述放射线图像检测器的基板的热膨胀系数实质上相同。
地址 日本国东京都