掩模

摘要

公开了一种可用于在淀积设备中在衬底上形成图案的掩模，以及使用该掩模来制造显示装置的方法。所述掩模包括掩模图案和框架。该掩模具有渐缩形状，其中该框架的内表面在从上端到下端的方向上渐缩。使用该掩模的掩模图案在衬底上形成薄膜图案。所述框架支持所述掩模图案的外部，并且包括在设置所述掩模图案的内侧方向渐缩的斜面。

主权项

一种用于在衬底上形成薄膜图案的掩模，该掩模包括：掩模图案，该掩模图案限定了要形成在所述衬底上的所述薄膜图案；以及框架，该框架支持所述掩模图案，并且包括在设置所述掩模图案的内侧方向渐缩的斜面。