发明名称 | 真空设备结构 | ||
摘要 | 一种真空设备结构,包括:第一本体、支撑单元、第二本体、抽真空单元;该第一本体具有第一侧及第二侧,该第一侧具有沟槽及孔洞,该沟槽容设至少一胶体;该支撑单元对接于该第二侧;该第二本体与该第一侧对应设置,并相对该第一本体作开放及闭合的动作;所述抽真空单元具有管体对接前述孔洞,通过本实用新型可快速达到抽真空及气密的效果,进而节省工时降低生产成本。 | ||
申请公布号 | CN202319209U | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
申请号 | CN201120465906.2 | 申请日期 | 2011.11.22 |
申请人 | 昇士达科技股份有限公司 | 发明人 | 黄庆宗 |
分类号 | B32B37/10(2006.01)I | 主分类号 | B32B37/10(2006.01)I |
代理机构 | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人 | 孙皓晨 |
主权项 | 一种真空设备结构,其特征在于,包括:第一本体,具有第一侧及第二侧,该第一侧具有至少一沟槽及至少一孔洞,该孔洞贯穿该第一本体,该沟槽容设至少一胶体;支撑单元,对接于所述第一本体的所述第二侧;第二本体,与所述第一本体的所述第一侧对应设置,并能够相对该第一本体作开放及闭合的动作;抽真空单元,具有管体,该管体对接所述孔洞。 | ||
地址 | 中国台湾新北市 |