| 发明名称 | 一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法。本发明是为了解决在现有工艺条件下，叉指电极周期长度不能无限制细微化提高声波传播速度的问题。本发明提供一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法，是在压电基底上沉积高刚性薄膜，采用磁控溅射镀膜方法控制高刚性薄膜应力，使压应力达到5～10GPa范围内。通过提高机械性能改善声学性能制作高性能SAW器件。 | ||
| 申请公布号 | CN102560398A | 申请公布日期 | 2012.07.11 |
| 申请号 | CN201210001559.7 | 申请日期 | 2012.01.05 |
| 申请人 | 西安工业大学 | 发明人 | 刘卫国;刘欢;蔡长龙;高爱华;鲍帅 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;H03H9/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人 | 黄秦芳 |
| 主权项 | 一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法，是在压电基底上沉积高刚性薄膜，采用磁控溅射镀膜方法控制高刚性薄膜应力，使压应力为5～10GPa。 | ||
| 地址 | 710032 陕西省西安市金花北路4号 | ||